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多功能镀膜系统
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更新时间:2025-12-04  |  阅读:109

详情介绍

多功能镀膜系统满足研究所和研发部门对真空薄膜沉积的性能要求,占用空间小,具有超高的性价比,可以向客户提供优质的服务。

多功能镀膜系统特点

小容量,快速重复工作流程;

活性沉积区域最大为200nm(8英寸)直径;

适应多种衬底;

可配备多个溅射源(最多至4个);

连续沉积模式或联合沉积模式;

不同工作气体控制;

共焦阴极分布;

50mm,75mm, 或100mm磁控溅射源;

内置阴极角倾斜;

阴极挡板;

直流,脉冲,高频(HG或MF)电源;

衬底,加热,冷却,或者RF/DC偏压;

可添加预抽室。


科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )为多家国外高科技仪器厂家在中国地区的代理。科睿公司一贯秉承『诚信』、『品质』、『服务』、『创新』的企业文化,为广大中国用户提供仪器、设备,周到的技术、服务和*的整体解决方案。在科技日新月异、国力飞速发展的中国,纳米科学研究、薄膜材料(包括半导体)生长和表征、表面材料物性分析、生物药物开发、有机高分子合成等等领域,都需要与欧美发达国家*接轨的仪器设备平台来实现。科睿设备有限公司有幸成长在这个火热的年代,我们愿意化为一座桥梁,见证中国科技水平的提升,与中国科技共同飞速成长。

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