磁控溅射仪：

衬底尺寸：4'为主，6'兼容。

溅射金属膜厚均匀性要求：≤±5%。

靶位：4个。

极限压力：<6.6×10-6e Pa。

靶材尺寸：3英寸。

可溅射磁性材料。

靶与样品距离可调，且可以在30度角度内摆头。

配置load-lock，可放置5片6英寸样品，在高真空状态下，由电动马达分别传送每片样品，顺序溅射每片样品，逐一完成5片溅射镀膜。

样品台可加热至750度，可旋转。

全自动真空度控制模块。

磁控溅射仪：

气路：Ar、O2、N2。

射频电源：2个，每个600W

直流电源：2个，每个1000W

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