真空快速退火炉-材料设备

真空快速退火炉-材料设备（RTP）一般都是以红外卤素灯为发热元件，升温速度极快，采用热电偶测温并采用国际*的PID控制，具有很高的控温精度，快速退火炉具有真空装置，可在多种气氛下工作。大大提高了其使用范围。


仪器规格：
加热方式：红外卤素钨灯；
最大样品尺寸： 2--6寸，单片；
最高温度： 1200度；
工作气体：最多3路气体（MFC控制），可通入氧气，氮气及惰性气体；
极限真空：5e-3torr；
真空泵：机械泵（可选配分子泵，干泵）；
工艺控制：手动工艺控制；
循环水冷却，提高降温速度；
结构紧凑，经济实惠。


应用：
快速热升温工艺（热退火）；
薄栅氧化（纳米器件)；
低熔点压焊（反应金属压焊）；
硅化物构造；
硅化物界点构造等。