我们提供了一种基于使用高功率LED和高级均匀化光学元件的创新紫外线照明系统。该产品线适用于光刻胶曝光（UV-LED光刻和固化），适用于MEMS、微流体、光子学、半导体和光伏应用中使用的各种基板和光刻胶。我们的标准UV照明产品系列满足了300毫米宽（11.8英寸）掩模和晶片的光刻需求。

可以根据您的具体要求设计定制解决方案（例如，改装口罩对准器，为您未来的产品提供OEM）。有关UV-LED改装和定制曝光系统的更多详细信息，请参阅我们的解决方案>技术页面。

UV-LED曝光系统：

为什么选择LED技术？

直到最近，汞弧灯是唯1能够提供适用于紫外光刻曝光的高强度光的光源。由于LED技术的进步，UV LED已成为危险和耗能汞灯的一种非常有吸引力的替代品。

除了生态和安全方面，与传统汞灯相比，UV LED的技术优势在光刻方面是众多而重要的。UV LED的一个主要优点是它们在很长的寿命内以一致的发射运行。因此，不需要进行日常校准和维护。此外，通过更节能，LED减少了加热，大大简化了系统冷却。

值得注意的是，可以组合在365nm、405nm和435nm（峰值波长）发射的LED来模拟汞弧灯的UV-A光谱（汞元素的i线、h线和g线特征峰）

UV-LED曝光系统的优势

照明稳定，无需日常校准

瞬时开启，仅在曝光时开启，不需要机械快门

使用寿命长，意味着不再需要耗材

窄光谱：不会对基材产生不必要的加热，工艺更可重复

低功耗

无维护成本