纳米压印系统-光刻机

引入了一个台式、独立的NanoImprint平台。
这个平台提供了一个带有微型定位夹具的机械平台，用于安装纳米压印室、紫外线固化源和校准显微镜。

它既可以作为纳米压印系统，也可以作为传统的掩模校准器，同时为整个压印过程提供可编程的自动控制。

我们纳米压印系统-光刻机的优势
•低于10纳米分辨率，99%的产量
•支持硬模具和软模具
•可变模具和基板尺寸提供的便利性和灵活性
•自动释放工艺可防止分离过程中的模具/基板损坏，并最大限度地提高每个印记的产量。
•自动释放工艺可防止分离过程中的模具/基板损坏，并最大限度地提高每个印记的产量。
•适用于各种应用的多功能流程：
•光学设备、显示器、数据存储、生物医学
•器件、半导体集成电路、化学合成和先进材料
•带触摸屏用户界面的可编程PLC允许通过定制参数进行过程控制
•专有的紫外固化纳米压印胶对硬度或厚度没有限制，并且与传统的光刻工艺兼容。