匀胶机是一种在高速旋转的基片上滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备，主要应用于微机电系统的微加工、生物、材料、半导体、制版、新能源、薄膜、光学及表面涂覆等领域，或用于样件较小无法使用提拉涂膜或刮膜的方式进行涂膜的基片的涂膜。
 

　　匀胶机主要具有以下特点？
 

　　1、旋转速度：转速的快慢和控制精度直接关系到旋涂层的厚度控制和膜层均匀性。如果标示的转速和电机的实际转速误差很大，对于要求精密涂覆的实验人员来说，可能无法获得准确的实验数据。
 

　　2、真空吸附系统：真空泵一般采用无油泵，即干泵，因为任何油污都可能堵塞真空管道。如果真空吸附力降低，会导致基片吸附不住而产生“飞片”的情况，还会让滴的胶液不慎进入真空管道系统造成堵塞。有的匀胶机通过联动机制，在真空吸附力不够时不会开始旋转，可有效避免滴的胶液不慎进入真空管道系统。
 

　　3、材质选择：对于半导体化工行业的应用来说，材质的选择尤为关键。大部分匀胶机采用的是不锈钢或者普通塑料材质，但这种材质的成本较低，其中不锈钢对于各类化工胶液的抗腐蚀性不太好，塑料则在较高温度和压力下易产生变形。变形如果引起托盘的位置失去水平，将会导致旋涂时产生时高时低的颠簸状态，无法得到好的旋涂效果。因此，有的匀胶机会采用天然聚丙烯(NPP)或者聚四氟乙烯(特氟隆，PTFE)等材质。