一、匀胶机是在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备，膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度。
 

　　二、匀胶机有一个或多个滴胶系统，可涂不同品种的光刻胶。滴胶的方式有晶片静止或旋转滴胶。随着晶片尺寸的增大，出现了多点滴胶或胶口移动式滴胶。胶膜厚度一般在500—1000nm，同一晶片和片与片间的误差小于±5nm。滴胶泵有波纹管式和薄膜式两种，并有流量计进行恒量控制。对涂过胶的晶片有上下刮边功能，去掉晶片正反面多余的光刻胶。主轴转速的稳定性和重复性是决定胶膜厚度均匀性和一致性的关键，起动加速度的大小是决定是否能将不同粘稠度的光刻胶甩开并使胶均匀的决定因素。
 

　　三、真空泵一定要无油的，压力标定准确，国内生产的无油真空泵实在不敢恭维。因为任何的油污都可能堵塞真空管道，如果真空吸附力降低，会导致基片吸附不住而产生“飞片”的情况，还会让滴胶液不慎进入真空管道系统造成堵塞。用过国产匀胶机的客户常常会关心怎么清洗的问题，这一点许多国外的匀胶机做得不错，他们有通过联动机制，如果真空吸附力不够的时候，不会开始旋转。
 

　　四、真空泵一般采用无油泵，即通常说的干泵，因为任何的油污都可能堵塞真空管道，如果真空吸附力降低，会导致基片吸附不住而产生“飞片”的情况，还会让滴的胶液不慎进入真空管道系统造成堵塞。有的匀胶机通过联动机制，当真空吸附力不够时不会开始旋转。这样可有效避免滴的胶液不慎进入真空管道系统。