不过，脉冲激光沉积的发展与探究，处处受制。事实上，当时的激光科技还未成熟，可以得到的激光种类有限；输出的激光既不稳定，重复频率亦太低，使任何实际的膜生成过程均不能付诸实行。因此，PLD在薄膜制作的发展比其它技术落后。以分子束外延（MBE）为例，制造出来的薄膜质素就优良得多。

　　往后十年，由于激光科技的急速发展，提升了PLD的竞争能力。与早前的红宝石激光器相比，当时的激光有较高的重复频率，使薄膜制作得以实现。随后，可靠的电子Q开关激光（electronicQ-switcheslasers）面世，能够产生极短的激光脉冲。因此，PLD能够用来做到将靶一致蒸发，并沉积出化学计量薄膜。由于紫外线辐射，薄膜受吸收的深度较浅。之后发展出来的高效谐波激光器（harmonicgenerator）与激基分子激光器（excimer）甚至可产生出强烈的紫外线辐射。自此以后，以非热能激光熔化靶物质变得极为有效。

　　脉冲激光沉积主要优点：

　　1.易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性。

　　2.沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀。

　　3.工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制。

　　4.发展潜力巨大，具有极大的兼容性。

　　5.便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。