脉冲激光外延制备系统可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料，还提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具，还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶、聚合物、纳米钻石、钻石涂层以及器件加工。

　　优势：

　　1. 靶源易蒸发，即使是高熔点的材料，如氧化物，也很容易蒸发。

　　2. 化学计量比准确，沉积的薄膜和靶材的化学组分几乎*一样。

　　3. 污染少。

　　4. 激光脉冲的重复频率可进行薄膜厚度/生长速率的数字式或非连续性控制。

　　5. 差分抽气结构，可在宽的气压范围内工作。

　　6. 靶材的交换简单快捷，有利于实现异质外延和多层结构的生长。

　　7. 脉冲激光外延制备系统结构紧凑，含有许多技术，如衬底加热和样品或靶材的进样-自锁交换装置等。

　　8. 在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。

　　9. 外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积，使用原位RHEED诊断技术沉积纳米级薄膜。