脉冲激光外延制备系统简单实用的PLD系统、磁控溅射系统，性能稳定的薄膜沉积系统，可提供PLD、磁控溅射、蒸发镀膜等多种薄膜制备方案，是多铁性薄膜制备的设备，*的石墨烯生长装置可以制备高质量的石墨烯薄膜。

　　制备系统可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、石墨烯、碳纳米管、2D材料，例如基片加热装置、原位监测工具。此外还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶、聚合物、纳米钻、钻涂层以及器件加工。

　　系统利用磁性氧化物中固有的氧空位，不需要离子液体栅极，有利于广泛应用于氧化物多铁异质结构，简化了设备的应用，此方法对利用离子运动调控多铁材料电控磁性能提供了新的思路。与传统制备色谱相比，有着高压力，大流量，配备馏分收集器，具有更高的处理样品能力，高精度梯度泵，可以实现梯度混合，双泵头设计降低了脉动，可以适应不同类型的色谱填料。

　　系统优点

　　1、应用范围广，制备纯度高，可适应不同柱子和填料。

　　2、全自动化设计，从软件上实现对仪器全程控制，达到智能化。

　　3、可选配3DS 层析过程分析工具软件，强大全谱分析功能。

　　4、安全可靠，压力报警，流量报警。

　　5、软件调节氘灯能量，可延长使用寿命溶剂输送系统。

　　脉冲激光外延制备系统将激光聚焦于靶材上一个较小的面积，利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其能够脱离靶材而向基底运动，进而在基底上沉积，从而形成薄膜的一种方式。在众多的薄膜制备方法中应用较为广泛，可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，甚至还用来制备一些难以合成的材料膜，如金刚石、立方氮化物膜等。